一. PVD靶点的核心定义

物理气相沉积（PVD）靶材是物理气相沉积（PVD）过程中受到高能离子轰击的溅射源材料。从靶材溅射出的原子或分子可以均匀沉积在金属注射成型（MIM）工件的复杂曲面和深孔结构表面，形成具有耐磨性、耐腐蚀性、生物相容性和装饰性等特定性能的功能薄膜。它们是整个涂层工艺的核心原材料。

二、MIM领域的主流目标类别及适用场景

1. 元素金属靶材

行业内应用最广泛的基础类别包括钛、铬、铝、铜等。其中，以钛靶材制备的TiN薄膜具有优异的生物相容性，是医疗器械和植入式MIM部件的核心选择；以铬靶材制备的薄膜具有出色的耐腐蚀性，广泛用于一般工业和锁具的MIM结构件。

2.合金靶材

由两种或两种以上金属元素按定制比例制成，例如钛铝、铬铝、镍铬等。与元素靶材相比，所制备的薄膜具有显著提高的耐高温性、抗氧化性和抗疲劳性，非常适合在汽车电子、新能源和 5G 通信等恶劣工作条件下使用的 MIM 精密零件。

3.复合陶瓷靶材

以碳化钛、氮化铬、二硫化钼等为代表的材料，可用于制备具有更高硬度的功能薄膜，同时实现定制化的光学、电学性能和外观效果。它们主要用于高端消费电子产品和半导体相关领域的金属注射成型（MIM）精密结构件。

三、目标选择的核心评价标准

• 纯度和密度：直接影响涂层过程中的颗粒缺陷和针孔缺陷，并决定MIM零件的表面良率和批量生产成本。
• 晶粒尺寸和均匀性：决定溅射速率的稳定性，确保具有复杂腔体和深孔结构的MIM零件的薄膜均匀性，且不会损害零件原有的高精度公差。
• 批次一致性：确保MIM零件批量生产过程中工艺稳定、良率可控和交付顺畅的核心保障

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